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高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設(shè)計開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動或自動開/關(guān)擋板，達到及時遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡單，更有工藝儲存等功能。采用電子束蒸鍍金膜時,會有微小的黑色顆粒出現(xiàn)在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規(guī)則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間。

粉末坩堝蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設(shè)計開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動或自動開/關(guān)擋板，達到及時遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡單，更有工藝儲存等功能。

真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進電鍍層附著能力，及抗蝕能力。

等離子清洗機鄭科 探KT-S2DQX通常被用在 一：等離子表面活化/清洗；二：等離子處理后粘合;三： 等離子蝕刻/活化 四： 等離子去膠;五：等離子涂鍍(親水,疏水); 六： 增強綁定性；七：等離子涂覆；八：等離子灰化和表面改性等場合。 通過其處理，能夠改善材料表面的浸潤能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。

三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動控制。利用直流磁控濺射和射頻磁控濺射技術(shù)，進行某傳感器基底Al2O3薄膜絕緣層的制備工藝及性能研究，對于指導薄膜傳感器工藝設(shè)計及應(yīng)用的快速發(fā)展，具有十分重要的理論意義及較好的工程應(yīng)用價值。